spContent=本课程是电子科学与技术、微电子学和其他相关专业的理论基础课。本课程旨在学习和掌握VLSI的主要工艺与原理及其有关工艺设备的特点,综合应用学生已学过的半导体物理、半导体器件基础等课程知识,去解决现代VLSI制造中的实际工艺问题,对于将来从事现代VLSI与系统设计和制造的学生来说必不可少。
本课程是电子科学与技术、微电子学和其他相关专业的理论基础课。本课程旨在学习和掌握VLSI的主要工艺与原理及其有关工艺设备的特点,综合应用学生已学过的半导体物理、半导体器件基础等课程知识,去解决现代VLSI制造中的实际工艺问题,对于将来从事现代VLSI与系统设计和制造的学生来说必不可少。
—— 课程团队
课程概述
集成电路工艺是把电路所需要的晶体管、二极管、电阻器和电容器等元件用一定工艺方式制作在一小块硅片、玻璃或陶瓷衬底上,再用适当的工艺进行互连,然后封装在一个管壳内,使整个电路的体积大大缩小,引出线和焊接点的数目也大为减少。电子集成技术按工艺方法分为以硅平面工艺为基础的单片集成电路、以薄膜技术为基础的薄膜集成电路和以丝网印刷技术为基础的厚膜集成电路。本课程是电子科学与技术、微电子学和其他相关专业的理论基础课。本课程旨在学习和掌握VLSI的主要工艺与原理及其有关工艺设备的特点,综合应用学生已学过的半导体物理、半导体器件基础等课程知识,去解决现代VLSI制造中的实际工艺问题,对于将来从事现代VLSI与系统设计和制造的本科生和研究生来说必不可少。
授课目标
从设备结构及其工作原理、单项工艺方法、工艺集成技术、工艺流程等方面,介绍集成电路芯片的制造工艺原理。了解集成电路芯片是如何制造出来的,加深对器件结构和集成电路的理解,为掌握器件结构和集成电路的设计打下良好的基础。
成绩 要求
本门课程的成绩要求为完成该课程的全部大纲要求内容,综合总评达到合格为准。
课程大纲
第一章绪论
①了解半导体产业的发展;
②掌握半导体技术的趋势;
③掌握半导体技术的发展规律、性能评价,了解中国半导体产业的现状。
第二章 硅和硅片
①掌握半导体级硅的概念及制备方法;
②熟悉单晶硅的生长原理和工艺;
③理解硅片制备的工艺流程和分析方法。
第三章 氧化
①理解氧化膜的基本特性和作用;
②掌握热氧化制备工艺和特点;
③理解氧化工艺流程。
第四章 淀积
①理解薄膜性质;
②掌握化学气相淀积原理、基本工艺;
③了解淀积系统原理;
④外延工艺
第5章 金属化
①掌握金属的类型和作用;
②掌握金属淀积系统原理;
③了解金属化方案和特点
第6章 光刻-气相成底膜
①理解光刻工艺的特点及性能;
②理解光刻工艺的8个基本步骤③气相成底膜和软烘。
第9章 刻蚀
①理解刻蚀的作用和方法;
②掌握干法刻蚀基本方法和主要性能;
③湿法刻蚀。
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预备知识
参考资料
推荐教材:Xiao Hong, Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology, SPIE, 2012
参考书目:Hong Xiao著,杨银堂等译,半导体制造技术导论,电子工业出版社,2013