薄膜材料凭借其微小的体积和优异的性能,在建筑、水利、环境、机械、航空航天、信息、能源、生物医学、电子等国民经济主要行业和领域中发挥着越来越重要的作用。本课程面向所有理工科高年级本科生以及研究生,课程内容包括真空技术简介、物理气相沉积、化学气相沉积、化学溶液法镀膜、薄膜的生长以及薄膜结构、薄膜性能测试技术和表征方法。课程的开设旨在引导学生了解电子薄膜技术的发展概况,理解真空技术的相关知识,掌握薄膜沉积的技术体系以及薄膜制备的多种技术方法,能够在薄膜沉积中综合考虑工艺参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构以及缺陷的影响,并初步掌握薄膜结构表征的方法。为进一步开展薄膜材料的制备和应用研究奠定基础。
通过课程学习,了解电子薄膜技术的发展概况,真空技术的相关知识和薄膜沉积的技术体系,掌握薄膜制备的技术方法,能够在薄膜沉积中考虑到各种技术参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构、缺陷的影响,并了解薄膜结构性质表征的方法。
固体物理
本课程采用百分制计分,平时单元作业20%,为主观题,需要完成作业提交和完成规定的互评数量;随堂布置的课程讨论的表现10%;课程结束考试70%。60分及以上为合格,85分及以上为优秀。
为保障证书权威性,只提供认证证书。证书收费:100元/人。
1. 唐伟忠.《薄膜材料制备原理、技术及应用》第二版,冶金工业出版社,2003年1月
2.田民波 .《薄膜技术与薄膜材料》,清华大学出版社,2006年8月
3.杨邦朝,王文生.《薄膜物理与技术》,电子科技大学出版社,1994年1月
4. 曲喜新.《薄膜物理》,上海科学技术出版社,1986年10月
5. M. Ohring.《Material Science of Thin Films-Deposition & Structure》世图影印版,2006年