薄膜材料是现代电子元器件、微电子器件的材料基础。本课程授课对象为电子科学与技术、材料科学与工程等专业高年级的本科生。课程内容包括真空技术、物理气相沉积(蒸发、溅射)、化学气相沉积、化学溶液法镀膜、薄膜的生长以及薄膜结构、性能的测试技术和表征方法。本课程的开设,拟在引导学生掌握薄膜科学的基础知识,为学生进一步学习电子元器件和微电子器件研制奠定基础。通过本课程的学习,要求学生了解电子薄膜技术的发展概况,理解真空技术的相关知识,掌握薄膜沉积的技术体系,以及薄膜制备的多种技术方法,能够在薄膜沉积中考虑到各种技术参数对薄膜附着力、厚度均匀性、结构、缺陷的影响,并了解薄膜结构表征的方法。
固体物理
本课程采用百分制计分,平时单元作业20%,为主观题,需要完成作业提交和完成规定的互评数量;随堂布置的课程讨论的表现10%;课程结束考试70%。60分及以上为合格,85分及以上为优秀。
电子版的课程结业证书免费。纸质版认证证书证书收费:100元/人。
1. 唐伟忠.《薄膜材料制备原理、技术及应用》第二版,冶金工业出版社,2003年1月
2.田民波 编著.《薄膜技术与薄膜材料》,清华大学出版社,2006年8月
3.杨邦朝,王文生.《薄膜物理与技术》,电子科技大学出版社,1994年1月
4. 曲喜新.《薄膜物理》,上海科学技术出版社,1986年10月
5. M. Ohring.《Material Science of Thin Films-Deposition & Structure》世图影印版,2006年