微电子工艺全面系统地介绍了微电子工艺基础知识,重点阐述芯片制造单项工艺:外延、热氧化、扩散、离子注入、化学汽相淀积、物理汽相淀积、光刻、腐蚀的原理、方法、用途,以及所依托的物理化学基础知识。介绍金属互连、典型工艺集成、关键工艺设备,以及微电子工艺未来发展趋势。
大学物理,大学化学
平时作业(客观题)50分,讨论(以主观问题为主)20分;在线考试:30分;满分100分。
总分超过60分,可获得合格证书,超过80分可获得优秀证书。
教材:王蔚、田丽等主编,集成电路制造技术—原理与工艺,电子工业出版社
参考书:美Stephen A. Campbell著,曾莹等译,微电子制造科学原理与工程技术,电子工业出版社
在绪论中将本课程用到的半导体物理基础知识囊括在:4、半导体单晶硅有什么特性?之中,如已了解相关知识,可忽略这部分内容。